除了FRET荧光淬灭组合，肽谷生物还可以提供包括FITC, FAM, TAMRA, Biotin等种类齐全的多肽荧光标记服务。
下面是一些常见的多肽修饰荧光物质结构：

      下表是一些荧光物质的激发光波长Ex(nm)和发射光波长Em(nm):

· FITC修饰

      FITC(异硫氰酸荧光素)具有比较高的活性，我们公司可以通过两种方式将FITC标记于多肽上：(1) 将FITC标记于赖氨酸（Lys）或被选择性地脱保护的鸟氨酸（ornithine）侧链氨基上；(2) 将FITC标记于多肽N端氨基。
      当在N端标记时，建议在最后一个氨基和由异硫氰酸酯与氨基反应产生的硫脲键之间引入烷基间隔器（alkyl spacer）如氨基己酸（Ahx）。链接切割需要酸性环境，在N端标记FITC的多肽需经历环化作用来形成荧光素，通常会伴有最后一个氨基酸的去除，但当有一个间隔器如氨基己酸，或者是通过非酸性环境将目的肽从树脂上切下来时，这种情况可避免。空间位阻被认为是在荧光染料前使用Ahx的主要原因，而不是为什么FITC不能直接偶联在多肽上的原因。
      Ahx或b-Ala均可作为间隔器用于FITC标记的多肽上。

· AMC修饰

      AMC(7-氨基-4-甲基香豆素)是一种应用广泛的荧光标记试剂， 与其他荧光染料不同的是，AMC修饰多肽分子是从C端进行：
      （1）AMC与肽链C端第一个氨基酸反应;
      （2）固相合成整条肽链（从第二个氨基酸开始），并且保留整条肽链的侧链保护基和最后一个氨基保护基；
      （3）液相缩合AA-AMC与全保护的肽链；
      （4）切除保护基，完成肽链的修饰。

      通常，生物素、FITC等染料可任意标记在多肽N端或C端。但我们推荐N端标记，其成功率更高、所需时间更短、更易操作。由于多肽都是从C端往N端合成，所以N端修饰将是固相合成的最后一步，不再需要额外的偶联步骤。相反，如果是C端标记，则需要附加步骤，而过程会更复杂。
      大多数染料都是大型的芳香分子，如此庞大分子的介入有助于避免标签和多肽之间的相互作用。这将有助于保持多肽的构象和生物学活性。一般来说，推荐引入一个柔性间隔如Ahx(一个6碳化合物)会使荧光标记更加稳定。否则FITC将很容易与其他任何位置的半胱氨酸的巯基或赖氨酸的氨基发生连接。